首先，要和大家說聲抱歉：之前我發(fā)布的離子注入設(shè)備供應商數(shù)據(jù)里被行業(yè)朋友指出不少錯誤，有可能對其他人產(chǎn)生誤導，所以我總結(jié)多個來源的反饋，重新整理了這個表格，供大家參考

其實半導體用離子注入設(shè)備的應用細分還有很多。比如：

    低能大束流里還分重金屬、超低溫和標準等多種機型；

    用于SiC器件制造的高溫注入設(shè)備其實也分大束流、中束流、高能這幾種；

    另外，注入設(shè)備在SOI襯底制造中還有注氫注氧等特殊細分應用

這些信息由于過于詳細，我暫時還無法一一細致整理，希望以后有機會梳理后再和大家分享探討

注）表內(nèi)SHELLBACK就是原來的OEM GROUP

免責聲明：本文采摘自半導體綜研，本文僅代表作者個人觀點，不代表薩科微及行業(yè)觀點，只為轉(zhuǎn)載與分享，支持保護知識產(chǎn)權(quán)，轉(zhuǎn)載請注明原出處及作者，如有侵權(quán)請聯(lián)系我們刪除。